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wutianhuan檢測要求
(1)治理設(shè)備應(yīng)設(shè)罝性采樣口，采樣口的設(shè)罝應(yīng)符合HJ/T 1，采樣
應(yīng)GB/T 1615要求。采樣頻次和檢測項0應(yīng)根據(jù)T_藝控制要求確屯。
(2)處量>10000m3/h的應(yīng)裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測裝罝：處
莆<10000m3/h的可以不裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測裝罝，伹應(yīng)配備相應(yīng)的
濃度檢測儀器定期進(jìn)行廢氣濃度檢測。在線連續(xù)監(jiān)測的運行應(yīng)符合國家
自動監(jiān)測濘理辦法的要求。
(3)有機(jī)廢氣的濃度檢測儀目前使用的主要是總剄檢測儀。在大多數(shù)情況下
使用總徑檢測儀就可以檢測要求。
(4)吸附器、催化器的加熱室和反應(yīng)室內(nèi)部裝設(shè)具有自動報鳘功能的多
點溫度檢測裝置，用于溫度的監(jiān)控，包括預(yù)熱溫度和反應(yīng)器進(jìn)出口氣流溫度等。
溫度傳感器應(yīng)按JJF 1049的要求標(biāo)足后使用。
在吸附和吸附劑的再生中，吸附器內(nèi)的溫度都在不斷地發(fā)生變化。特別
是對于較髙濃度氣體的吸附，由于吸附放熱，床層的溫升明顯。在吸附劑的再生
中，特別是使用熱氣流吹掃再生和髙溫水蒸氣罝換再生時，再生氣流溫度過
髙，床層中達(dá)到一泣的溫度時就會發(fā)生危險，閔此一般要求對吸附器的溫度進(jìn)行
監(jiān)控。催化器的加熱室相反應(yīng)室內(nèi)部應(yīng)裝設(shè)具有R動報蝥功能的多點溫度檢
測裝罝是催化器設(shè)計的某本要求。
(5)應(yīng)定期檢測過濾兩端的壓差。
7. 2控制要求
在一般情況下，廢氣治理設(shè)備與生產(chǎn)工藝相比應(yīng)該先開后停，前后要有約10
分鐘的時間間隔，似需要巧生產(chǎn)車間進(jìn)行脅調(diào)，實現(xiàn)連鎖控制。
治理丁程應(yīng)采用總線分布控制，實現(xiàn)對的控制及進(jìn)出口溫度、壓力
和流量等的遠(yuǎn)程集中控制。
控制閥門應(yīng)選用防爆和丁藝要求的氣動或電動控制。防爆招施采取隔爆
型和本安型相結(jié)合。本安型防爆原理是將執(zhí)行器或控制電磁閥中的線圈經(jīng)過底功率技術(shù)處理了電壓、電流，將功率在低極限以下；隔爆原理的運用，如在防爆廠各種電氣元件的連接采用特殊的防爆接頭等。
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彩印廠廢氣凈化工程
應(yīng)用范圍
△ 工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生有機(jī)廢氣的凈化；
△ 生物、化工行業(yè)在其各種加工中產(chǎn)生異味、惡臭廢氣的凈化；
△ PV、人造革油煙凈化，增塑劑回收；
△ 印刷油墨廢氣的凈化等。
低溫等離子體和催化氧化凈化原理：
1、等離子體的概念：氣體在高壓電場作用下產(chǎn)生電離，電離形成的輝光態(tài)即為等離子體，并被稱之為的第四態(tài)。等離子體由電子、離子、基和中性粒子組成，總體上保持電中性。
2、低溫等離子體凈化原理：脈沖電暈放電和介質(zhì)阻擋放電是在氣態(tài)污染物凈化方面的兩種凈化技術(shù)。等離子體中存在很多電子、離子、活性基和激發(fā)態(tài)分子等有極高化學(xué)活性的粒子，使很多需要很高活化能的化學(xué)反應(yīng)能夠發(fā)生，使常規(guī)難以祛除的污染物得以轉(zhuǎn)化或分解。對于有機(jī)和異味惡臭廢氣在等離子體中的氧化降解機(jī)理，反應(yīng)主要有以下幾個：
（1）高能電子的作用下強(qiáng)氧化性基O、OH、HO2等的產(chǎn)生；
（2）有機(jī)物分子受到高能電子碰撞，被激發(fā)及原子鍵斷裂形成碎片基團(tuán)或原子；
（3）O、OH、HO2與激發(fā)原子有機(jī)物分子、破碎的分子基團(tuán)、基等一系列基反應(yīng)，終將有機(jī)物分子氧化降解為二氧化碳和水等無害。
3、催化氧化凈化原理：在等離子電場凈化外，我公司還應(yīng)用具有催化氧化能力的催化氧化劑，進(jìn)一步凈化降解有機(jī)和異味惡臭廢氣，該催化氧化劑以稀土為載體，同時浸漬一定比例的溶液，經(jīng)科學(xué)工藝合成直徑在2～4mm顆粒狀催化氧化劑。
首先，該氧化劑微孔多，吸附性強(qiáng)，具有很大的比表面積，約800～1200M2/g，因此使用周期長，一般為一年更換一次。其次，氧化性強(qiáng)，顆粒狀氧化劑里外微孔都浸漬了，氧化性特別強(qiáng)。再則直徑2～4mm顆粒狀催化氧化劑裝模在V字型的箱子內(nèi)，風(fēng)阻小，氧化均勻，更換容易。
催化氧化機(jī)理實質(zhì)是氧化還原機(jī)理，通過得失電子的化學(xué)將污染物中的碳氧化為二氧化碳，將廢氣中的異味氧化還原為二氧化碳和水。
該催化氧化劑具有、、更換方便、無二次污染等優(yōu)點，能進(jìn)一步氧化前幾段未處理盡的有害和祛除廢氣的異味，終達(dá)到排放。
4、廢氣凈化機(jī)工藝流程圖：
凈化裝置擬設(shè)計為五段凈化：
?段為洗滌塔清洗裝置
除去瀝青煙氣中的大顆粒煙塵并使廢氣溫度。瀝青煙氣的硫化氯、等氣體與塔中藥劑中和洗滌，以保證后續(xù)處理效果。
?第二段為除水裝置
通過除水器除去廢氣中大顆粒水汽，以便后續(xù)的凈化處理。
?第三段為預(yù)處理過濾裝置
使瀝青煙氣均勻通過凈化裝置，確保煙氣凈化效率大化，同時利用機(jī)械碰撞、重力沉降的原理，使均流板上形成的大顆粒油滴集油槽內(nèi)。
?第四段為等離子體凈化裝置
低溫等離子體電暈放電技術(shù)降解有害廢氣是科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)。這種放電產(chǎn)生于兩個電極之間，并在脈沖高壓電作用下對空氣放電，將空氣，從而產(chǎn)生等離子體。其產(chǎn)生的大量活性基（OH—、O2—、H 、O3）可以直接打開有害廢氣各種氣體分子之間的分子鍵，使有害氣體分解為簡單的小分子，從而對有害氣體和異味進(jìn)行降解和氧化，終產(chǎn)物對人體和均無害。
?第五段為活性炭吸附裝置
在等離子電場凈化外，我公司還應(yīng)用204型活性炭顆粒，進(jìn)一步凈化吸附有機(jī)和異味惡臭廢氣。
此類活性炭顆粒以含碳材料為載體，經(jīng)科學(xué)工藝合成直徑在2～4mm 的活性炭顆粒，可吸附等有害氣體。該顆粒微孔多，吸附性強(qiáng)，具有很大的比表面積，約800～1200m2/mg，因此使用周期長，一般為六個月更換一次。其次，顆粒狀活性炭里外微孔都浸漬了，氧化性特別強(qiáng)。再則，活性炭顆粒裝模在V字型的箱子內(nèi)，風(fēng)阻小，氧化均勻，更換容易。
因此選用活性炭顆粒吸附裝置，進(jìn)一步吸附通過前期處理后氣體中殘余的異味，使終凈化效率達(dá)到90%以上。
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復(fù)合玻璃鋼貯液箱、加液管、在吸液管上加有濾液裝置，進(jìn)風(fēng)段采用復(fù)合玻璃鋼制作。 （9）沒有二次污染?；钚蕴嫉倪x擇可以根據(jù)實際情況選擇顆粒碳和蜂窩狀活性碳等。（4）采用計算機(jī)（PLC）對裝置進(jìn)行自動控制，影響到處理、、吸收效果等關(guān)鍵參數(shù)，均由計算機(jī)自動控制，自動化程度高；
【標(biāo)題 洗滌塔
廢氣處理主要治理的氣體種類有苯、甲苯、,醋酸乙酯,,乙醇,,甲醛等有機(jī)廢氣,,,氨等酸堿廢氣處理和有機(jī)廢氣處理.在氧化室中，有機(jī)廢氣再由器補(bǔ)燃，加熱升溫至設(shè)定的氧化溫度。使其中的有機(jī)物被分解成二氧化碳和水。由于廢氣已在蓄熱室內(nèi)預(yù)熱，器的燃料用量大為。氧化室有兩個作用：一是保證廢氣能達(dá)到設(shè)定的氧化溫度，二是保證有足夠的停留時間使廢氣中的廢氣充分氧化。適用范圍廣，可同時凈化多種污染物；廢氣處理設(shè)備多介質(zhì)催化氧化工藝原理：反應(yīng)塔內(nèi)裝填的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過填料層，與通過噴嘴呈發(fā)散霧狀的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染有很好的去除率。優(yōu)點：小，投資低，運行成本低；方便，即開即用。缺點：耐沖擊負(fù)荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。廢氣處理設(shè)備有機(jī)廢氣的及催化凈化設(shè)備：法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時，生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對后氣體進(jìn)一步處理。廢氣凈化塔是氣液逆流運行，的廢氣由塔底入口塔體，自下而上穿過填料層，后從塔頂管道出口經(jīng)防腐蝕風(fēng)機(jī)。中和藥水在塔頂通過分布器，均勻地噴淋到填料層中，沿著填料層表面向動直到塔底，由管道塔外，由防腐循環(huán)泵循環(huán)工作。由于上升廢氣和下降吸收劑在填料層中不斷，所以上升氣流中溶質(zhì)的濃度越來越低，到塔頂時已達(dá)到吸收要求后塔外。相反下降中的介質(zhì)濃度越來越高，到塔底時達(dá)工藝條件要求，塔外。
