| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 其他 | 型號 | SYS-500 |
| 類型 | 紫外線殺菌消毒設備 | 加工定制 | 是 |
| 處理量 | 其他 | 殺菌率 | ≥95% |
| 滅藻率 | ≥97% | 工作壓力 | 220V |
| 工作溫度 | -25°C到95°C | 功率 | 50w-200w |
| 設備名稱 | 全程綜合水處理器 | 產(chǎn)地 | 河北省石家莊市 |
一體化全程綜合水處理器 供熱站全程水處理器漢中
“全程水處理器--全程水處理儀--全程綜合水處理器”的產(chǎn)品說明信息可能還不夠細致和，如果您需要更詳細了解全程水處理器--全程水處理儀--全程綜合水處理器的相關(guān)信息或索取相關(guān)資料，歡迎隨時與我聯(lián)系！
★一。產(chǎn)品功能
全程水處理器是針對各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問題：腐蝕、結(jié)垢、菌藻、水質(zhì)而惡化研制的綜合處理器，由單臺設備代替了需要多臺設備才能完成的處理過程，從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理，防垢、防腐、菌、滅藻、超凈過濾功能。
結(jié)合紫外線的強菌、滅藻功能，彌補了射頻技術(shù)在高溫、高濕、水質(zhì)惡劣等環(huán)境下菌滅藻的不足之處。
★二。適用范圍
*1.主要適用于循環(huán)水、自來水、地表水、地下水、海水、游泳池用水、熱水的水質(zhì)處理及控制；
*2.適用于石油、輪胎、橡膠、化工、鋼鐵、發(fā)電、空調(diào)、采暖、地源熱泵、及其它工礦企業(yè)的循環(huán)水、源水及污水處理等。
★三。產(chǎn)品特點
*1.結(jié)合超聲波技術(shù)、紫外線菌消功能。設備綜合性能遠高于一般的“射頻水處理器”、“電子水處理器”及“磁水處理器”等。
*2.各發(fā)射極利用差轉(zhuǎn)屏蔽效應及多點陣列組合。相互之間無干擾，針對性強。
*3.可實現(xiàn)全自動排污。并且可以在系統(tǒng)正常運行狀態(tài)下進行排污和反洗，不影響系統(tǒng)的正常運行，有效控制濃縮比，降運行費用，無需人工作。
*4.可配備水質(zhì)綜合檢儀，對水質(zhì)進行連續(xù)監(jiān)測、數(shù)字顯示。
★四。技術(shù)參數(shù)
*1.處理效
①。緩蝕率：≤0.092mm／a，管道的銹蝕速度降原來的1／10；
②。阻垢、除垢率：≥95％；
③。菌率：≥95％；
④。滅藻率：≥95％；
⑤。過濾精度：可根據(jù)用戶需求選擇。
*2.進水要求
①?？傆捕龋ㄒ訡aCO3計）：≤800mg／L；
②。水溫：≤50℃（特殊情況可定制）；
③。流速：＞1m／s，≤2.8m／s.
*3.工作環(huán)境參數(shù)
①。工作壓力：≤1.6MPa；
②。系統(tǒng)壓力：≥0.3MPa；
③。工作電壓：220V±10％／50Hz；
④。工作溫度：-25℃-95℃；
⑤。工作環(huán)境溫度：-25℃-50℃；
⑥。相對濕度：＜95％（溫度25℃時）；
⑦。輸出功率：50-1500W.
★五。工作原理
*1.防垢除垢
由主機產(chǎn)生電磁場和超聲波作用于水系統(tǒng)管路上，使管道內(nèi)水分子產(chǎn)生共振，把氫鍵締合的水分子團變成單個的極性，改變了水的活性，這些極微小的水分子可以滲透、包圍、溶解、去除系統(tǒng)中的老垢提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組分的水合能力，起到阻止水垢形成的作用。同時，在電磁場和超聲波的作用下，使原有的水垢結(jié)晶逐漸變得松軟、脫落、溶解，從而達到除垢之目的。
*2.防腐防銹
氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統(tǒng)管道及設備腐蝕和生銹的主要原因，而在電磁場和超聲波的作用下，水垢得以控制和去除，溶解氧與水分子結(jié)合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發(fā)生起到良好的防腐阻銹的作用。
*3.菌滅藻
電磁場在工作時產(chǎn)生微電子流使菌、藻類賴以生存的環(huán)境被破壞，并且溶解氧在電磁場和超聲波的作用下形成一些如O3、H2O2等對菌、藻類具極強殺傷力的物質(zhì)，起到滅藻的作用。
*4.超凈過濾
其一：將系統(tǒng)監(jiān)測的結(jié)果輸入到控制系統(tǒng)，根據(jù)已經(jīng)設定的電導率、TDS實現(xiàn)智能化、科學化排污；
其二：多濾筒結(jié)構(gòu)；根據(jù)處理數(shù)量，濾筒數(shù)量為3-12個，實現(xiàn)在線反沖洗（過濾、反沖及排污同時進行），可實現(xiàn)系統(tǒng)的連續(xù)運行，不需停機。 sldlll
