| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | CSF-32-50-2UH |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 雙級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 立式加速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 2422 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
（3）刻蝕 刻蝕是在沒有光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。日本HD刻蝕工藝諧波傳動(dòng)CSF-32-50-2UH-SP一般使用等離子體刻蝕機(jī)、等離子體去膠機(jī)和濕法清洗設(shè)備?，F(xiàn)在主要使用干法等離子體刻蝕工藝。
（4）離子注入 離子注入是亞微米工藝中最常見的摻雜方法。 將要摻入的雜質(zhì)，如砷
(As)、磷（P）、硼（B）注入離子注入機(jī)，經(jīng)過電離日本HD刻蝕工藝諧波傳動(dòng)CSF-32-50-2UH-SP，再由高電壓或磁場控制并加速，高能雜質(zhì)離子穿透涂膠硅片的表面，最后進(jìn)行去膠和清洗硅片完成離子注入。
（5）薄膜生長 薄膜生長工藝用來加工出半導(dǎo)體中的介質(zhì)層、金屬層。薄膜工藝包括化學(xué)氣相淀積（CVD）和金屬濺射（物理氣相淀積，PVD）。薄膜產(chǎn)生后需要使用快速退火裝置（RPT）修復(fù)離子注入引入的襯底損傷，日本HD刻蝕工藝諧波傳動(dòng)CSF-32-50-2UH-SP以及完成金屬的合金化。最后使用濕法清洗設(shè)備進(jìn)行硅片清洗。
