| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | SHD-40-100-2SH |
| 類型 | 無(wú)級(jí)減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 單級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 立式加速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 樣品 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 礦產(chǎn) | 減速比 | 453 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝技術(shù)及設(shè)備
半導(dǎo)體芯片制造工藝過(guò)程中使用最多的是光刻工藝。哈默納科中空光軸諧波SHD-40-100-2SH才光刻工藝系統(tǒng)所用設(shè)備由自動(dòng)硅片軌道系統(tǒng)串聯(lián)而成。曝光晶圓尺寸大小、曝光分辨率、單位時(shí)間曝光晶圓數(shù)是衡量一個(gè)光刻機(jī)性能的主要技術(shù)指標(biāo)，也是決定一個(gè)光刻生產(chǎn)線生產(chǎn)能力的哈默納科中空光軸諧波SHD-40-100-2SH核心設(shè)備。
目前通常使用的光刻機(jī)包括：接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、分步重復(fù)光刻機(jī)、步進(jìn)掃描光刻機(jī)。一般根據(jù)生產(chǎn)批量及芯片的特征值不同分別使用不同的光刻系統(tǒng)。接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)通常用于實(shí)驗(yàn)室小批量生產(chǎn)微米級(jí)芯片，此外接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)也用于微機(jī)械結(jié)構(gòu)的光刻加工哈默納科中空光軸諧波SHD-40-100-2SH。大批量亞微米到納米級(jí)芯片通常使用掃描投影光刻機(jī)、分步重復(fù)光刻機(jī)、步進(jìn)掃描光刻機(jī)。
