| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | SHD-40-100-2SH |
| 類型 | 擺線針輪減速器 | 載荷狀態(tài) | 強沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 雙級 | 軸的相對位置 | 臥式減速器 |
| 傳動布置形式 | 同軸式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 543 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
.光刻技術及設備的發(fā)展
從圖2.25所示的光學曝光隨集成電路最小尺寸的演變圖我們可以看出，日本HD光學設備諧波SHD-40-100-2SH從上世紀80年代到本世紀初，光學曝光是主要的光刻方法，日本HD光學設備諧波SHD-40-100-2SH光學曝光使用深紫外光。從20世紀80年代初的3mm集成電路到2004年90nm的集成電路的發(fā)展，光學曝光光源使用汞燈，波長從G線（436nm）、I線（365nm），再到使用準分子激光光源，波長為248nm和193nm。過去的十年中產(chǎn)業(yè)界利用大數(shù)值孔徑和浸沒式曝光技術，以及離軸照明技術(Off Axis illumination,OAI)、空間濾波技術、日本HD光學設備諧波SHD-40-100-2SH相位移掩模（Phase Shift Mask, PSM）、光學臨近效應校正技術等光學曝光分辨率增強技術，使用193nm的深紫外光將集成電路最小尺寸做到了22nm。
