| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | CSF-17-80-2UH-L |
| 類型 | 齒輪-蝸桿減速器 | 載荷狀態(tài) | 中等沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 雙級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 臥式減速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線式 | 用途 | 減速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 礦產(chǎn) | 減速比 | 4543 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
盡管半導(dǎo)體制造工藝非常復(fù)雜，但是產(chǎn)業(yè)界通常將這些復(fù)雜的工藝過程歸納為加法工藝日本HD退火工藝諧波CSF-17-80-2UH-LW、減法工藝、圖形轉(zhuǎn)移工藝及輔助工藝等工藝過程。
加法工藝。包括摻雜和薄膜工藝，使用設(shè)備主要有擴(kuò)散爐、日本HD退火工藝諧波CSF-17-80-2UH-LW離子注入機(jī)和退火爐。薄膜工藝包含氧化、化學(xué)氣相淀積、濺射和外延，使用設(shè)備包括氧化爐、CVD反應(yīng)爐、濺射鍍膜機(jī)和外延設(shè)備。摻雜工藝中有擴(kuò)散和離子注入工藝。
減法工藝。是指刻蝕工藝，包括干法刻蝕和濕法腐蝕，使用設(shè)備包括濕法刻蝕機(jī)、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)。日本HD退火工藝諧波CSF-17-80-2UH-LW圖形轉(zhuǎn)移工藝。主要方法為光刻工藝。使用設(shè)備有涂膠和顯影設(shè)備，以及光刻機(jī)
