| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-17-80-2 |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 均勻載荷 |
| 傳動(dòng)比級數(shù) | 多級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 展開式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線式 | 用途 | 變速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 15kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 111rpm | 許用扭矩 | 1782N.m |
| 使用范圍 | 工業(yè) | 減速比 | 236 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
輔助工藝。主要包括拋光與清洗。拋光一般使用化學(xué)機(jī)械平坦化完成拋光工藝harmonic拋光機(jī)諧波 CSF-17-80-2UH-LW，使用設(shè)備有CMP拋光機(jī)、硅片清洗機(jī)等。
行業(yè)內(nèi)也將半導(dǎo)體制造工藝過程分為四種基本工藝：薄膜生成工藝harmonic拋光機(jī)諧波 CSF-17-80-2UH-LW、圖形轉(zhuǎn)移工藝、摻雜工藝、其他輔助工藝（包括熱處理工藝 、清洗工藝、CMP）。下面我們將分別介紹這四種工藝及其使用設(shè)備
薄膜生成工藝是通過生長或淀積的方法，生成集成電路制造過程中所harmonic拋光機(jī)諧波 CSF-17-80-2UH-LW需的各種材料的薄膜，如金屬層、絕緣層、半導(dǎo)體層等。半導(dǎo)體中各個(gè)層次的制造工藝如表2.1所示。例如可以利用蒸發(fā)、濺射、電鍍工藝生成導(dǎo)體層，如鋁或金為材質(zhì)的導(dǎo)體層。二氧化硅作為絕緣層，可以用熱氧化工藝、化學(xué)氣相淀積工藝或?yàn)R射工藝來加工。
