詳細(xì)參數(shù) | |||
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品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | SHD-14-50-2 |
類(lèi)型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 雙級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 立式加速器 |
傳動(dòng)布置形式 | 擺線(xiàn)式 | 加工定制 | 是 |
樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
布局形式 | 擺線(xiàn)式 | 用途 | 變速機(jī) |
輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 360kw |
輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
使用范圍 | 礦產(chǎn) | 減速比 | 60 |
產(chǎn)地 | 日本 |
離子注入 離子注入是亞微米工藝中最常見(jiàn)的摻雜方法。將要摻入的雜質(zhì)harmonic硅片清洗諧波SHD-14-50-2SH ,如砷 (As)、磷(P)、硼(B)注入離子注入機(jī),經(jīng)過(guò)電離,再由高電壓或磁場(chǎng)控制并加速,harmonic硅片清洗諧波SHD-14-50-2SH高能雜質(zhì)離子穿透涂膠硅片的表面,最后進(jìn)行去膠和清洗硅片完成離子注入。
(5)薄膜生長(zhǎng) 薄膜生長(zhǎng)工藝用來(lái)加工出半導(dǎo)體中的介質(zhì)層、金屬層。薄膜工藝包括化學(xué)氣相淀積(CVD)和金屬濺射(物理氣相淀積,PVD)。薄膜產(chǎn)生后需要使用快速退火裝置(RPT)修復(fù)離子注入引入的襯harmonic硅片清洗諧波SHD-14-50-2SH損傷,以及完成金屬的合金化。最后使用濕法清洗設(shè)備進(jìn)行硅片清洗。