| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-25-160-2A |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 單級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 分流式 | 加工定制 | 否 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 691N.m |
| 使用范圍 | 化工 | 減速比 | 446 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
以光學(xué)紫外曝光為例，首先將硅片定位在光學(xué)系統(tǒng)的聚焦范圍內(nèi)，日本HD關(guān)節(jié)軸組合諧波CSF-25-160-2A-GR硅片的對準(zhǔn)標(biāo)記與掩模版上相匹配的標(biāo)記對準(zhǔn)后，紫外光通過光學(xué)系統(tǒng)和掩模版圖形進(jìn)行投影。掩模版圖形若以亮暗的特日本HD關(guān)節(jié)軸組合諧波CSF-25-160-2A-GR征出現(xiàn)在硅片上，這樣光刻膠就曝光了。
8所示為紫外曝光系統(tǒng)曝光過程示意圖。該曝光系統(tǒng)包括一個紫外光源、一個光學(xué)系統(tǒng)、一塊由芯片圖形組成的投影掩模版、一個對日本HD關(guān)節(jié)軸組合諧波CSF-25-160-2A-GR準(zhǔn)系統(tǒng)和涂過光刻膠的硅片。硅片放在可以實(shí)現(xiàn)X、Y、Z、?方向運(yùn)動的承片臺上，由對準(zhǔn)激光系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)承片臺上的硅片與掩模版之間的對準(zhǔn)，由光源系統(tǒng)、投影掩模版、投影透鏡實(shí)現(xiàn)硅片上光刻膠的曝光。
